CVD

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  什么是化学蒸气沉淀 (CVD) 钻石？

CVD 表示化学蒸气沉淀法，这是在实验室制造钻石的另一种方法。这种钻石是采用人工方法模拟天然钻石结晶特点生成并制造的钻石，它的生长需要在真空室内对烃类混合气体施加适当的压力和温度。CVD培育钻石是在每一个方面上真切意义的钻石，其化学、物理、原子、光及所有特性与天然钻石相同。

  CVD 钻石的生长过程

1、将钻石晶种置于钻石生长室中。

2、生长室中注入含碳气体。

3、将生长室加热至 900-1200°C。

4、微波束让碳从等离子云中落下，沉积在晶种上。

5、每隔几天会取出其中钻石，打磨钻石顶部表面，移除其上的非钻石碳元素，然后再放回生长室。每批钻石可能需要经历几次开始/停止循环，整个生长过程需要三到四周

6、取出合成钻石晶体后，这些晶体就可以进行切磨，制成产品。

详细说来，HPHT 钻石是在一个小舱室里生长的，这个小舱室位于可以产生很 高压力的装置内。舱室内的碳原料（如石墨）熔解在铁（Fe）、镍(Ni)、钴 (Co) 等元素组成的金属助溶剂中，从而降低钻石生长所需的温度和压力。然后，碳材料借助助溶剂向温度较低的钻石晶种移动，并在其上结晶，形成合成钻石晶体。结晶过程需要数天至数周时间，以形成一个或多个晶体。

详细来说，CVD 钻石是在充满碳氢混合气体（如甲烷）的真空室内生长的。能量源（如微波束）分解气体分子，碳原子向下吸附到温度更低的扁平钻石排种盘中。结晶过程需要数周时间，多个晶体同时生长。确切的数量取决于真空室的尺寸和排种盘的数量。这种板状晶体通常会形成需要切除的黑色石墨粗糙边缘。它们还会呈现褐色，这种颜色在进行宝石刻面步骤前，可通过热处理去除。